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2012年成功申請了九項軟件著作權

發布時間：2016-08-16

2011年10月，我機構已成為9項電腦軟件重要著作權保護，分別為有光刻方位幾項、陰離子加入方位幾項、聚酯薄膜刻蝕方位一個

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